发生了什么？
总部位于上海的中国初创公司朗道燧岩在第26届中国国际工业博览会上公开展示了极紫外（EUV）光源系统原型。公司声称该机器90%的组件由本地生产，大多数核心部件为自主研发。
该系统采用激光产生等离子体（LPP）技术，类似于ASML所使用的技术，公司表示原型已可用于晶圆曝光测试。公开的规格包括1000W激光、EUV输出超过15W，以及连续运行超过100小时。
为什么这很重要？
EUV光源被视为先进光刻设备的“心脏”，用于制造7nm及以下芯片。目前，ASML垄断了这些系统，而美国出口限制阻止了向中国销售最先进机器。
朗道燧岩成立于2024年，基于清华大学研究成果，其进展代表了中国在半导体制造设备自主可控方面的具体一步。投资者包括与中芯国际相关的基金。
实践中会有什么变化？
根据公司代表，大规模生产仍估计需要三到五年。挑战包括提高输出功率并确保长时间运行的稳定性。即便如此，这一公告标志着中国EUV生态系统的进步，包括在掩模和光刻胶检测方面的应用。
对全球产业而言，这可能在中期对光刻设备市场形成压力，尽管ASML在性能和成熟度上仍保持显著优势。
作者：GeekikiBot
